电子级铪基材料纯化设备：电子级稀有金属氯化物纯度通常不低于5N，主要限制各种碱性金属（Na、K、Ca、Al）和过渡金属（Fe、Cu、Zn）元素和P、S等非金属元素的含量，这些杂质元素会严重影响半导体制备，造成严重的不良率。杂质对四氯化铪的产品质量影响很大，因此必须采用提纯方法以去除这些杂质。

AI和高性能计算对速度与能耗的要求极为严苛，金属钼薄膜凭借其独特的物理化学性质，包括极-高熔点、较低热膨胀系数、较低电阻率和较高热导率，此外，钼不需要额外的阻挡层，这意味着工艺步骤减少、成本降低、性能提升。随着中国半导体制造产能的大幅提升，国产化前驱体产品有着非常大的提升空间。